氢氧化钠哪家好?

1、氢氧化钠较好的厂家包括黄骅市勤征化工产品有限公司、黄骅市天信化工有限公司、济南汇丰达化工有限公司、淄博环拓化工有限公司和广州市锦天化工科技有限公司。

2、氢氧化钠也就是烧碱，固碱，片碱的化学名称是危化品。新疆碱比较好。想是新疆中泰，新疆天业都是生产氢氧化钠的国有企业。产地就是新疆嘛，含量袋子上打的99%实际含量应该是在98%已上或者95%已上。活达化工--有卖这两种碱。

3、苏州化原化工有限公司 苏州化原化工有限公司正宗大苏打具有很强的腐蚀性，吸收性和潮解性，可用作干燥剂。但是，二氧化硫，二氧化碳，二氧化氮，氯化氢等酸性气体不能干燥，因为氢氧化钠与二氧化碳发生反应。（它与酸性气体发生反应）。

4、氢氧化钠、次氯酸钠、氨水、盐酸都是常见的化工原料，其质量是否优良主要取决于生产厂家是否正规，以及生产工艺是否科学严谨。无论是国内还是国外，只要是正规厂家生产的合格产品，都可以保证其质量的可靠性。

5、都一样。片碱，化学名氢氧化钠，白色半透明片状固体，为基本化工原料，广泛用于造纸、合成洗涤及肥皂、粘胶纤维、人造丝及绵织品等轻纺工业方面，农药、染料、橡胶和化学工业方面、石油钻探，精炼石油油脂和提炼焦油的石油工业，以及国防工业、机械工业、木材加工、冶金工业，医药工业及城市建设等方面。

单晶硅,多晶硅生产流程。

1、多晶硅的生产方法有多种，其中改良西门法是最主流的一种。以下是多晶硅生产的主要流程： 氢气制备与净化工序：电解槽内经电解脱盐水制得氢气，经过冷却、分离液体后，进入除氧器，除去氢气中的微量氧气。

2、单晶硅的生产工艺流程主要包括原料准备、多晶硅制备、单晶硅生长和后续处理四个主要步骤。 原料准备：单晶硅的制备首先要从硅的原料开始。通常，硅以硅酸盐或二氧化硅的形式存在于自然界中，如石英、硅砂等。这些原料需要经过化学处理，如与碳在高温下反应，生成粗硅。

3、单晶硅的生产工艺：石材加工一开始是石头（所有石头都含硅）。这块石头被加热后变成了液态。加热后变成气态，气体通过一个密封的大盒子。盒子里有N多个加热的子晶体，两端用石墨夹住。当气体通过盒子时，子晶体会将其中一种气体吸收到子晶体中，子晶体逐渐变厚。

4、单晶硅生产工艺流程： 原料准备与提纯 石头加工是单晶硅生产的第一步。原始的石头含有硅元素，经过加热转化为液态，再进一步转化为气态。这些气体在一个密封的箱子中被引导，箱内装有多个子晶，它们在加热过程中吸引气体中的硅元素，逐渐生长成粗细不一的原生多晶硅。这个过程大约需要一个月时间。

5、硅的制取顺序是：二氧化硅矿石--〉工业硅--〉多晶硅--〉单晶硅。单晶硅是用多晶硅经单晶炉拉制而成的，也有用区熔法制取单晶硅的。但是区熔单晶硅的位错密度较大。所以半导体器件多用拉制的单晶硅作原始材料。注意，多晶硅不是用单晶硅制取的。

6、多晶硅，是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核，如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则这些晶粒结合起来，就结晶成多晶硅。石英砂在电弧炉中冶炼提纯到98%并生成工业硅，其化学反应SiO+C→Si+CO↑。

氢氟酸加热会怎么样

1、会。加热氢氟酸会导致分子间的活动变活跃，从而导致分子交换变快，会加快反应速度。氢氟酸（HydrofluoricAcid）是氟化氢气体的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。

2、问题二：氢氟酸加热到150度能去掉二氧化硅吗 氢氟酸加热到150℃肯定可以除去二氧化硅。氢氟酸在常温下就能和二氧化硅反应。方程式：SiO2 + 4HF == SiF4 + 2H2O 二氧化硅常温下为固体，化学式为SiO？，不溶于水。不溶于酸，但溶于氢氟酸及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用。

3、氢氟酸加热不会结晶，因为氢氟酸的主要成分是氟化氢的水溶液，氟化氢是气体。

4、适当加热就行，不要温度太高，因为氢氟酸具有挥发性，容易挥发，降低浓度。

5、接触氢氟酸后的初始救护措施通常包括在接触部位涂上葡萄糖酸钙凝胶。如果接触范围过广，又或者延误时间太长的话，医护人员可能会在动脉或周围组织中注射钙盐溶液。但无论如何，接触氢氟酸后必须得到及时并且专业的护理。即使能得到及时治疗，身体表面少于10%的面积暴露在氢氟酸中也会是致命的。

6、氢氟酸刻蚀玻璃不需要加热。氢氟酸刻蚀玻璃（主要成分二氧化硅）发生如下反应：SiO2（s）+4HF（aq）===SiF4（g）↑+2H2O（l）生成的SiF4可以继续和过量的HF作用，生成氟硅酸：SiF4（g）+2HF（aq）===H2[SiF6]（aq），氟硅酸是一种二元强酸。

铝化学抛光怎样脱膜及配方

配方：氢氧化钠30-50G/L，工业洗涤剂0.5-1ML/L，水70-125G。工艺条件：温度：50-60℃时间：除油后用清水冲洗。

铝合金化学抛光的原理主要是利用化学溶液对铝合金表面的选择性溶解作用，去除表面的不平整部分，从而获得光滑、光亮的表面。详细来说，铝合金化学抛光通常涉及将铝合金制品浸入特定的化学抛光液中。这种抛光液一般由酸性或碱性成分、氧化剂以及可能的其他添加剂组成。

硝酸去膜出光；对含硅及杂质多的铸铝合金，用硝酸∶氢氟酸= 3 ∶1 去膜出光。（二）　电化学抛光 无水碳酸钠250～300 g/ L ，磷酸三钠20～80g/ L ，电压12～15 V ，电流密度4～8 A/ dm2 ，温度80 ℃，时间5 min 。优点：无六价铬污染，成本低，可获得镜面光泽。

没得到扩大适用范围。但是，至今磷酸、硝酸、硫酸混合液因为适应性强，还是主流配方。含铜、锌较高的铝合金，化学抛光时加2～5g/L铬酐有帮助。手册上有记述，含硅高的铝合金，化学抛光时用60～65mL/L硝酸、15～20mL/L氢氟酸、甘油1～2mL/L的混合液，在室温下浸2s。不过这种方法更像是浸蚀。

铝片的除油工艺：30g/L氢氧化钠（NaOH），25g/L碳酸钠（Na2CO3），70℃，2min。化学除氧化膜的工艺：250ml/L硝酸（HNO3）， 5min。化学抛光的工艺：800ml/L磷酸（H3PO4），30ml/L硝酸（HNO3），75℃，3min。阳极氧化工艺如上述氧化液配方中所示。染色的工艺：2g/L西素黄，60℃，6min。

电子级磷酸和氢氟酸的用途有啥不一样?

电子级氢氟酸是一种高纯度的氢氟酸溶液，主要用于电子工业中的高纯硅片制造和其他电子材料处理。以下是对电子级氢氟酸的详细解释：基本定义 电子级氢氟酸是氢氟酸的一种高纯度形式。氢氟酸是一种无机酸，由于其特殊的化学性质，特别是在与硅材料反应时表现出的优异性能，被广泛应用于电子工业。

在国内市场，电子级氢氟酸主要应用于微电子行业，作为蚀刻剂和清洗剂使用，对芯片制造过程的清洁度和工艺控制起着决定性作用。尽管在其他领域的使用量相对较少，但其在微电子行业的地位是无可替代的。

电子级氢氟酸，一种无色透明液体，散发出强烈的刺激性气味，且具有剧毒。它具备极强的腐蚀性，能够侵蚀玻璃和硅酸盐，并生成气态的四氟化硅。在空气中，电子级氢氟酸会发烟，易溶于水、醇，但难溶于其他有机溶剂。该化学物质在半导体制造领域有广泛应用，被归类为高纯度应用的氢氟酸。

氢氟酸能与大多数金属、金属氧化物和氢氧化物发生反应，生成相应的盐类，其腐蚀性极其强烈，可以侵蚀玻璃和硅酸盐，甚至会形成四氟化硅的气态产物。氢氟酸在溶解性方面表现出独特的特性，它能轻易地溶于水和醇，但相对困难地溶解在有机溶剂中。